一、真空炉热处理炉用途
       真空炉热处理适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等。

二、真空炉热处理炉特点
       1、加热元件360度均布，炉温均匀性高，冷室监控标配。
       2、该设备分热室和冷室，生产效率高，使用成本低。
       3、淬火油槽安装搅拌器（可调速），工件变形小，冷却均匀性高，操作简捷，编程工艺可多步输入，机械动作稳定，手动/自动控制，故障自动报警/显示。

三、真空炉热处理炉参数

型号	加热有效区 （mm）	装炉量 （Kg）	加热元件 （Ω）	加热功率 （Kw）	高温度 （℃）	均温性 （±℃）	限真空度（Pa）	压升率 （Pa/h）	气冷压强 （bar）
TDRG2-644	600×400×400	200	石墨/钼	70	1320	5	4.0E-1/6.7E-3	≤0.60	≤2
TDRG2-755	750×500×500	300	石墨/钼	80
TDRG2-966	900×600×600	500	石墨/钼	120
TDRG2-1288	1200×800×800	800	石墨/钼	240